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                微流控平臺

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                橢偏儀——SE500

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                規格參數
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                簡介


                SE500
                橢偏儀是一種利用光的偏振態變化來進行薄膜性質表征的儀器,主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數等性質。橢偏儀的主要原》理是將自然光(紫外光、可見光以及紅ζ 外光)變成完全偏振光㊣後通過一定角度入射到◆樣品上,偏振光進入樣品介質後會反射回到橢偏儀檢偏器內,由於樣品介質會對偏振光的偏振態發生改變,而這種№改變會被橢偏儀精確測量,橢偏】儀就是利用這個介質對偏振光性質改變的原理▅來表征介質的性質的。
                SE500型號采用雙光◇譜儀耦合實現250-1700nm超長↘波段的探測,可實現對材料紫外、可見和紅外波段的全覆蓋測量研究,同時可搭配自動平臺掃描、自動變角、微光斑探測以及〖平臺加熱等功能滿足不同︽應用需求。

                系統配置:

                 探測器:陣列探測器,

                光源:高功率的DUV-Vis-NIR復合光源

                軟件:TFProbe 3.3版本的軟件〓

                入射角度變化:手動調節

                 測量種類:薄膜厚度、折射率和消光系數以及多層膜堆疊

                計算機:Intel雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器

                電源:110–240V AC/50-60Hz,6A

                保修:一年的整機及零部件保修▅

                 

                規格參數


                波長範圍:250nm到1700 nm

                光斑尺寸:1mm至5mm可變

                樣品尺寸:直徑可達200mm

                測量厚度範♂圍*:?30μm

                測量時間:約1秒/位置點

                入射角範圍:20到90度,5度間隔

                 重復性誤差*:小於1 ?

                 

                可選→項配置:

                用於反射的光度測量或透射測量;

                用於測量小區域的微小光斑;

                用於改變卐入射角度的自動量角器;

                X-Y成像平臺(X-Y模式,取代ρ-θ模式);

                加熱/致冷平臺;

                樣品垂直安裝角度計;

                波長可擴展到遠DUV或IR範圍;

                掃描單色儀的配置;

                聯合MSP的數字成像功能,可用於對樣品的圖像進行測量等。

                 

                其他選項配置:

                用於玻璃@基底測量的特殊樣品架

                用於觀察樣ぷ品區的可視模塊

                加▓熱或制冷平臺

                可用♀於實時在線測量

                其他尺【寸的樣品臺

                用於 Liquid Cell 的特殊配》置

                用於單波長或窄波段探測的單色掃描儀配置

                 

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                光譜反射分析系♀列:SR100、SR300、SR500等

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                橢偏儀系№列:SE200BA、SE200BM等

                自動掃描測試平臺:M100、M150、M200等

                未找到相應參數組,請於後①臺屬性模板中添加

                SE500簡介
                橢偏儀是一種利用光的偏振態變化來進行薄膜性質表征的儀器,主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數等性質。橢偏儀的主要原理是將自【然光(紫外光、可見光以及紅外光)變成完全偏振光後通過一定角度入射█到樣品上,偏振光進入樣品介質後會反射回到橢偏儀檢偏器內,由於樣品介質會對偏振光的偏振態發生改變,而這種改變會被橢偏儀精確測量,橢偏≡儀就是利用這個介質對偏振光性質改變的原理來表征介質↑的性質的。
                SE500型號采用雙光譜儀耦合實現250-1700nm超長波段的探測,可實現對材料紫外、可見和紅外波段的全覆蓋測量研究,同時可搭配自動平臺掃描、自動變角、微光斑探測以及平臺加熱等功能滿足不同應用需求。

                波長範圍:250nm到1700 nm

                光斑尺寸:1mm至5mm可變

                樣品尺寸:直徑可達200mm

                測量厚度範圍*:?30μm

                測量時間:約1秒/位置點

                入射角範圍:20到90度,5度間隔

                 重復性誤差*:小於1 ?

                 

                可選項配置:

                用於反射的光度測量或透射測量;

                用於測量小區域的微小光斑;

                用於改變入射角度的自動量角器;

                X-Y成像平臺(X-Y模式,取代ρ-θ模式);

                加熱/致冷平臺;

                樣品垂直安裝角度計;

                波長可擴展到遠DUV或IR範圍;

                掃描單色儀的配置;

                聯合MSP的數字成像功能,可用於對樣品的圖像進行測量等。

                 

                其他選項配置:

                用於玻璃基底測量的特殊樣品架▲

                用於觀察樣品區的可視模¤塊

                加熱或制冷平臺

                可用於實時在線測量

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                光譜反射分析系列:SR100、SR300、SR500等

                微光斑分析系列:MSP100、MSP300、MSP500等

                橢偏儀系列:SE200BA、SE200BM等

                自動掃描測試平臺:M100、M150、M200等

                暫未實現,敬請期待
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